| Getting your Trinity Audio player ready... |
Conforme publicado pelo Yahoo Tech no último sábado (29),a Rússia anunciou recentemente o desenvolvimento da primeira ferramenta de litografia nacional do país, capaz de fabricar chips utilizando processos de 350 nanômetros (nm).
O equipamento foi criado em colaboração entre o Centro de Nanotecnologia de Zelenograd (ZNTC) e a empresa bielorrussa Planar, passando por inspeções oficiais e atualmente em fase de integração em Zelenograd. Apesar de representar um marco na busca por independência tecnológica, o design do equipamento remonta a padrões industriais dos anos 1990, levantando questões sobre sua relevância no cenário atual.
- Rússia investirá US$2,54 bilhões em indústria de chips doméstica até 2030
- Rússia aplica multa no Google de US$20 decilhões, 23 vezes mais que todo dinheiro do mundo
Detalhes técnicos
O sistema desenvolvido é compatível com wafers de 200 mm e utiliza um laser de estado sólido como fonte de luz para a exposição dos chips, com um campo de exposição de 22 mm x 22 mm (484 mm²).
Detalhes técnicos específicos, como a potência e o comprimento de onda do laser, não foram divulgados. O uso de laser de estado sólido é incomum entre os principais fabricantes de equipamentos de litografia, como a ASML, que tradicionalmente empregam lâmpadas de mercúrio e lasers excimer para processos entre 350 nm e 130 nm.
Tecnologia ainda é aplicável
Embora processos de 350 nm sejam considerados obsoletos para a produção de chips avançados, essa tecnologia ainda encontra aplicação em setores como a indústria automotiva, gestão de energia e equipamentos militares, nos quais a miniaturização extrema não é essencial.
No entanto, os principais fabricantes de chips russos, como Mikron e Angstrem, já operam com processos mais avançados, variando de 250 nm a 90 nm, o que limita a aplicabilidade imediata do novo equipamento.
Por fim, vale ressaltar que desenvolvimento faz parte de um plano estratégico do governo russo para alcançar autonomia na fabricação de semicondutores. O roteiro nacional prevê a implementação de processos de 90 nm até o final de 2025, com metas de atingir 28 nm em 2027 e 14 nm em 2030. A ZNTC já trabalha em um modelo mais avançado, visando processos de 130 nm, com previsão de conclusão para 2026.